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Integration optischer Filter mit strukturierten mikromechanisch abstimmbaren Sensor-Arrays mittels Dünnschichtdeposition und Nanostrukturierung / Karin Schultz

データ種別 電子ブック
Zweite korrigierte Auflage
出版者 Kassel [Germany] : Kassel University Press GmbH
出版年 2014
本文言語 ドイツ語
大きさ 1 online resource (181 pages)

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URL (芸大)電子ブック 電子ブック(EBSCO: eBook Open Access Collection)
EB2202299
9783862197156

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資料種別 機械可読データファイル
内容注記 ""Front cover ""; ""Titelseite ""; ""Impressum ""; ""Zusammenfassung""; ""Inhaltsverzeichnis""; ""Motivation und Zielsetzung""; ""Motivation""; ""Zielsetzung""; ""Strukturierung der Arbeit""; ""Optische und mechanische Eigenschaften von DÃ?nnschichtsystemen""; ""Licht als elektromagnetische Welle""; ""Verhalten an idealer GrenzflÃ?che""; ""Fresnelsche Gleichungen""; ""Eigenschaften dÃ?nner Schichten""; ""Interferenz""; ""Eigenschaften von DÃ?nnschichtstapeln""; ""Transfer-Matrix-Methode""; ""Periodische Vielschichtsysteme""; ""Grundlagen zum Fabry-Pérot-Interferometer""
""KenngrÜßen des Fabry-Pérot-Interferometers""""Mechanische Eigenschaften d�nner Schichten""; ""Bestimmung der Schichtverspannung""; ""Multischichtsysteme""; ""Freistehende Strukturen""; ""Mikromechanische Strukturen""; ""Optische Filter""; ""Absorptions- und Interferenzfilter""; ""Filterklassen""; ""Verwendete Herstellungs- und Charakterisierungstechnologien""; ""Plasmaunterst�tzte chemische Gasphasenabscheidung""; ""Funktionsprinzip""; ""Plasmalab 80 Plus""; ""Polymertechnologie""; ""Fotolithographie""; ""�tzverfahren""; ""Nasschemisches �tzverfahren""; ""Trocken�tzverfahren""
""Weißlichtinterferometrie""""Rasterelektronenmikroskopie""; ""Optischer Messplatz""; ""Stand der Forschung zum Thema miniaturisierte Spektrometer""; ""Gitterbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Interferometerbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Filterfeld-basierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Entwicklung des stressreduzierten Filterdesigns""; ""Basis und Filterstruktur""; ""Referenz-Design""; ""Geometrie der Filterstrukturen""; ""Standard-Design""; ""Prozessparameter der Si3N4-Schichten""; ""Adaption der oberen Elektrode""; ""Stressreduziertes Design""; ""Konzept""
""Carrier-Layer""""Prozessablauf beim stressreduzierten Design""; ""Top-Elektroden-Maske""; ""Lichtschutzschicht""; ""Spektralanalyse und Aktuation""; ""Diskussion""; ""Anpassung des UnterÃ?tzprozesses mit Implementierung einer Schutzschicht""; ""Ansatz und Methodik""; ""ProzessfÃ?hrung""; ""Methodik""; ""Verwendung der Fotolacke AZ1518 und AZ4562 als Schutzschicht""; ""SiO2 als Schutzschicht-Material""; ""Diskussion""; ""Erweiterung des Filtersystems zur Nutzung eines breiten Spektralbereichs""; ""Prozessablauf""; ""Bottom-Schichtsystem""; ""Top-Schichtsystem""; ""Filter-Strukturierung""
""SchichthomogenitÃ?t bei vorstrukturierten OberflÃ?chen""""Strukturanalyse""; ""Diskussion""; ""Integration eines optischen Filters zur Adaption an spezifische Anwendungen""; ""Kombination aus Langpass- und Kurzpassfiltern""; ""Filterkombination""; ""Diskussion""; ""State-of-the-art-Filter zur Erweiterung des konfokalen Messaufbaus""; ""Breitband-Filterdesign""; ""Luftspaltfilter""; ""Filterstack""; ""Reflexions-Kaltlichtspiegel""; ""Diskussion""; ""Zusammenfassung""; ""Ausblick""; ""Anhang""; ""Prozesse""; ""Depositionsparameter Siliziumnitrid""; ""Depositionsparameter Siliziumdioxid""
一般注記 Open Access
Includes bibliographical references
Online resource; title from PDF title page (ebrary, viewed September 20, 2014)
著者標目 *Schultz, Karin,
件 名 BSH:Electronic books
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分 類 DC23:530.4175
書誌ID ED00003482
ISBN 9783862197156

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