Export Mendeley
Integration optischer Filter mit strukturierten mikromechanisch abstimmbaren Sensor-Arrays mittels Dünnschichtdeposition und Nanostrukturierung / Karin Schultz
| Material Type | E-Book |
|---|---|
| Edition | Zweite korrigierte Auflage |
| Publisher | Kassel [Germany] : Kassel University Press GmbH |
| Year | 2014 |
| Language | German |
| Size | 1 online resource (181 pages) |
Hide details.
| Media type | 機械可読データファイル |
|---|---|
| Contents | ""Front cover ""; ""Titelseite ""; ""Impressum ""; ""Zusammenfassung""; ""Inhaltsverzeichnis""; ""Motivation und Zielsetzung""; ""Motivation""; ""Zielsetzung""; ""Strukturierung der Arbeit""; ""Optische und mechanische Eigenschaften von D�nnschichtsystemen""; ""Licht als elektromagnetische Welle""; ""Verhalten an idealer Grenzfl�che""; ""Fresnelsche Gleichungen""; ""Eigenschaften d�nner Schichten""; ""Interferenz""; ""Eigenschaften von D�nnschichtstapeln""; ""Transfer-Matrix-Methode""; ""Periodische Vielschichtsysteme""; ""Grundlagen zum Fabry-Pérot-Interferometer"" ""KenngrÜßen des Fabry-Pérot-Interferometers""""Mechanische Eigenschaften d�nner Schichten""; ""Bestimmung der Schichtverspannung""; ""Multischichtsysteme""; ""Freistehende Strukturen""; ""Mikromechanische Strukturen""; ""Optische Filter""; ""Absorptions- und Interferenzfilter""; ""Filterklassen""; ""Verwendete Herstellungs- und Charakterisierungstechnologien""; ""Plasmaunterst�tzte chemische Gasphasenabscheidung""; ""Funktionsprinzip""; ""Plasmalab 80 Plus""; ""Polymertechnologie""; ""Fotolithographie""; ""�tzverfahren""; ""Nasschemisches �tzverfahren""; ""Trocken�tzverfahren"" ""Weißlichtinterferometrie""""Rasterelektronenmikroskopie""; ""Optischer Messplatz""; ""Stand der Forschung zum Thema miniaturisierte Spektrometer""; ""Gitterbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Interferometerbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Filterfeld-basierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Entwicklung des stressreduzierten Filterdesigns""; ""Basis und Filterstruktur""; ""Referenz-Design""; ""Geometrie der Filterstrukturen""; ""Standard-Design""; ""Prozessparameter der Si3N4-Schichten""; ""Adaption der oberen Elektrode""; ""Stressreduziertes Design""; ""Konzept"" ""Carrier-Layer""""Prozessablauf beim stressreduzierten Design""; ""Top-Elektroden-Maske""; ""Lichtschutzschicht""; ""Spektralanalyse und Aktuation""; ""Diskussion""; ""Anpassung des Unter�tzprozesses mit Implementierung einer Schutzschicht""; ""Ansatz und Methodik""; ""Prozessf�hrung""; ""Methodik""; ""Verwendung der Fotolacke AZ1518 und AZ4562 als Schutzschicht""; ""SiO2 als Schutzschicht-Material""; ""Diskussion""; ""Erweiterung des Filtersystems zur Nutzung eines breiten Spektralbereichs""; ""Prozessablauf""; ""Bottom-Schichtsystem""; ""Top-Schichtsystem""; ""Filter-Strukturierung"" ""Schichthomogenit�t bei vorstrukturierten Oberfl�chen""""Strukturanalyse""; ""Diskussion""; ""Integration eines optischen Filters zur Adaption an spezifische Anwendungen""; ""Kombination aus Langpass- und Kurzpassfiltern""; ""Filterkombination""; ""Diskussion""; ""State-of-the-art-Filter zur Erweiterung des konfokalen Messaufbaus""; ""Breitband-Filterdesign""; ""Luftspaltfilter""; ""Filterstack""; ""Reflexions-Kaltlichtspiegel""; ""Diskussion""; ""Zusammenfassung""; ""Ausblick""; ""Anhang""; ""Prozesse""; ""Depositionsparameter Siliziumnitrid""; ""Depositionsparameter Siliziumdioxid"" |
| Notes | Open Access Includes bibliographical references Online resource; title from PDF title page (ebrary, viewed September 20, 2014) |
| Authors | *Schultz, Karin, |
| Subjects | BSH:Electronic books LCSH:Thin films -- Optical properties All Subject Search LCSH:Light filters -- Materials All Subject Search BISACSH:SCIENCE -- Energy All Subject Search BISACSH:SCIENCE -- Mechanics -- General All Subject Search BISACSH:SCIENCE -- Physics -- General All Subject Search FREE:Thin films -- Optical properties All Subject Search FREE:Spektrometer FREE:Miniaturisierung FREE:Fabry-Pérot-Interferometer FREE:Optisches Filter FREE:Verteilte Bragg-Reflexion FREE:Sensor-Array FREE:Nanooptik FREE:Dünne Schicht FREE:PECVD-Verfahren FREE:Fotolithografie |
| Classification | DC23:530.4175 |
| ID | ED00003482 |
| ISBN | 9783862197156 |